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VSK 威視康 — Cognex 官方授權 PSI 系統整合商
半導體 2024/12/19

晶圓 Wafer ID、T7 與 OCR 辨識:選型及追溯整合指南

從 SEMI 標記、成像與 checksum,到 In-Sight 1740 與 AI OCR 路徑,建立不斷鏈的晶圓識別流程。

從 SEMI 標記、成像與 checksum,到 In-Sight 1740 與 AI OCR 路徑,建立不斷鏈的晶圓識別流程。。

PROCESS OUTCOME · 製程改善重點

這項解法應改善什麼?

MARK TYPE

先確認 T7 2D code、M12/M13 字元或其他刻號規格;不同標記需要不同讀取與驗證路徑。

IMAGE FORMATION

晶圓反光、刻痕深淺、污染與位置變化先由光學及定位處理,不能只靠 OCR 模型補救。

TRACEABILITY

結果應包含字串、狀態、分數或 checksum、影像與批次資訊,並定義 no-read 後續流程。

PRODUCT ROUTE

晶圓專用識別優先評估 In-Sight 1740;困難字元才依官方支援與樣品測試評估 AI OCR。

SOLUTION FRAME · 解法框架

先確認製程問題,再選 Cognex 技術路徑

製程任務

先定義要辨識、檢測、定位或量測的對象,以及允收與不允收邊界。

證據與驗收

以 Cognex 官方文件建立技術邊界,再用代表性樣品與可重現方法驗證。

產品與整合

確認成像、視野、節拍、介面與資料需求後,才進入產品及架構選型。

重點先說

晶圓 Wafer ID 應先選 OCR 還是讀碼?

先看晶圓上的標記種類,而不是先選相機。SEMI T7 屬二維矩陣碼;M12、M13 等則是字元標記。碼制、標記面、晶圓尺寸、刻號品質及站點介面會決定應採專用 Wafer Reader、一般讀碼器或 AI OCR。

晶圓識別要解決的製程問題

  • 反光或低對比造成字元與背景分離不穩。
  • 刻號深淺、污染、位置與極性變化導致 no-read。
  • OCR 結果未做格式、checksum 或 MES 預期值驗證。
  • 讀取失敗只有 NG 訊號,沒有重拍、人工覆核與追溯流程。

三條技術路徑

任務優先評估路徑選型重點
SEMI T7 等二維碼Wafer ID 專用讀取/2D code 解碼碼制、模組尺寸、標記面、checksum、工作距離
M12/M13 等字元Wafer ID OCR/acuRead 類工具字體、字元高度、極性、刻號品質與格式規則
反光、變形或蝕刻品質不穩的困難字元在官方支援與樣品測試確認後評估 AI OCR成像對比、字元集合、批次變異、誤讀與 no-read 邊界

為什麼不能直接把 D900 當成所有晶圓 OCR 的答案?

D900 與 AI OCR 可處理特定困難字元任務,但晶圓識別已有 In-Sight 1740 等專用產品路徑。正確做法是先按標記規格、讀取位置、追溯規則與介面選擇技術,再用客戶樣品驗證;不是以 AI 名稱取代製程分析。

對製程帶來的優化

  • 減少 no-read 後的人工輸入與重工。
  • 在搬運、分選與製程站點間維持 wafer/lot 對應。
  • 把字串、判定、影像、批次及時間送入追溯系統。
  • 以重試、覆核與異常處理流程避免識別失敗直接形成資料斷鏈。

驗收資料應包含什麼?

至少記錄總讀取次數、成功、no-read、誤讀、重試後成功、人工覆核與排除樣本,並按標記類型、批次、站點和成像條件分層。只報一個整體讀取率,無法判斷錯誤發生在哪個製程條件。

評估前請準備

  • 晶圓尺寸、標記面、SEMI 規格或實際字元/碼制。
  • OK、最淡、最反光、污染及位置偏移樣品。
  • 視野、工作距離、節拍、觸發與載具條件。
  • MES 字串格式、checksum、握手、重試及 no-read 規則。

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FAQ · 工程決策問題

這項製程解法的常見問題

晶圓 Wafer ID 常見哪些標記?

Cognex Wafer ID 文件列出 SEMI T7 二維矩陣碼,以及 M12、M13、T1 等晶圓標記規格;實際選型應先確認晶圓尺寸、標記面、碼制與字元格式。

In-Sight 1740 與 D900 應如何選?

In-Sight 1740 是晶圓識別的專用產品路徑;D900 則適合在官方功能與樣品測試確認後處理困難 AI OCR 任務。不能只因字元難讀就預設 D900 一定較合適。

晶圓反光或刻號深淺不一怎麼處理?

先以照明角度、偏振、曝光、鏡頭與固定方式建立穩定影像,再設定定位、OCR 或讀碼工具。若原始影像沒有足夠對比,單靠演算法無法建立穩定驗收。

Wafer ID 如何接到 MES?

應先定義輸出字串、讀取狀態、checksum 或分數、設備握手、重試與 no-read 路徑,以及影像和批次欄位;再依設備介面完成 PLC/MES 對接。

TECHNICAL BASIS · 技術依據

技術依據與下一步選型

本頁將 Cognex 官方文件整理成可執行的製程判斷;若需求方向相符,可依上方 VSK 產品路徑進一步確認規格,或提供樣品與站點條件和工程師討論。

查核 Cognex 官方技術來源
  1. In-Sight Wafer ID User Manual:列出 T7、M12、M1.15、M13、T1 等晶圓標記及 Wafer ID 設定流程。 參考文件
  2. acuRead Overview:說明 acuRead 的主要應用是讀取矽晶圓上的刻寫字元。 參考文件
  3. OCR on Assembled PCB Components:說明 AI OCR 對反光、變形、傾斜與蝕刻不佳字元的應用;此來源屬電子元件應用,不等同晶圓量產案例。 參考文件

來源用於界定技術能力與適用邊界;實際結果仍須以客戶樣品、成像條件與驗收資料確認。

要評估這項半導體製程?

提供樣品照片、最小特徵或碼規、視野、節拍與設備介面,VSK 工程師可協助確認成像、產品路徑及驗收方式。

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